Tetrafluorid uhličitý (CF4)

Technické parametry

Fluorid uhličitý je halogenovaný uhlovodík s chemickým vzorcem CF4.Může být považován za halogenovaný uhlovodík, halogenovaný methan, perfluorovaný uhlovodík nebo za anorganickou sloučeninu.Fluorid uhličitý je bezbarvý plyn bez zápachu, nerozpustný ve vodě, rozpustný v benzenu a chloroformu.Stabilní za normální teploty a tlaku, vyhněte se silným oxidantům, hořlavým nebo hořlavým materiálům.Nehořlavý plyn, při vystavení vysokému teplu se vnitřní tlak nádoby zvýší a hrozí nebezpečí prasknutí a výbuchu.Je chemicky stabilní a nehořlavý.Při pokojové teplotě může pracovat pouze kapalné činidlo amoniak-sodík.Fluorid uhličitý je plyn, který způsobuje skleníkový efekt.Je velmi stabilní, může zůstat v atmosféře po dlouhou dobu a je velmi silným skleníkovým plynem.Fluorid uhličitý se používá v procesu plazmového leptání různých integrovaných obvodů.Používá se také jako laserový plyn a používá se v nízkoteplotních chladivech, rozpouštědlech, mazivech, izolačních materiálech a chladicích kapalinách pro infračervené detektory.Je to nejpoužívanější plazmový leptací plyn v mikroelektronickém průmyslu.Jedná se o směs tetrafluormethanového vysoce čistého plynu a tetrafluormethanového vysoce čistého plynu a vysoce čistého kyslíku.Může být široce používán v křemíku, oxidu křemičitém, nitridu křemíku a fosfosilikátovém skle.Leptání tenkovrstvých materiálů, jako je wolfram a wolfram, je také široce používáno při povrchovém čištění elektronických zařízení, výrobě solárních článků, laserové technologii, nízkoteplotním chlazení, kontrole těsnosti a detergentu při výrobě tištěných obvodů.Používá se jako nízkoteplotní chladivo a technologie suchého plazmového leptání pro integrované obvody.Opatření pro skladování: Skladujte v chladném, větraném skladu nehořlavého plynu.Uchovávejte mimo dosah ohně a zdrojů tepla.Skladovací teplota by neměla překročit 30°C.Měl by být skladován odděleně od snadno (hořlavých) hořlavin a oxidantů a vyvarujte se smíšeného skladování.Skladovací prostor by měl být vybaven zařízením pro nouzové ošetření úniků.

Aplikace:

① Chladivo:

Tetrafluormethan se někdy používá jako nízkoteplotní chladivo.

② Leptání:

Používá se v mikrovýrobě elektroniky samostatně nebo v kombinaci s kyslíkem jako plazmové leptadlo pro křemík, oxid křemičitý a nitrid křemíku.

Normální balíček:

Výhoda:

①Vysoká čistota, nejnovější zařízení;

② výrobce certifikátu ISO;

③ Rychlé dodání;

④On-line analytický systém pro kontrolu kvality v každém kroku;

⑤Vysoké požadavky a pečlivý proces pro manipulaci s válcem před plněním;