Tovární cena pro Čínu 99,9999% vysoce čistý plyn Sih4 silanový plyn pro proces nanášení polovodičů

Bez ohledu na nového zákazníka nebo předchozího klienta věříme v prodloužené časové období a důvěryhodný vztah pro tovární cenu pro Čínu 99,9999% vysoce čistý plyn Sih4silanový plynpro Semi Conductor Deposition Process, Vítáme nové i staré zákazníky, kteří se s námi spojí telefonicky nebo nám pošlete poštou dotazy ohledně předvídatelných budoucích sdružení společností a dosažení vzájemných úspěchů.
Bez ohledu na nového zákazníka nebo předchozího klienta věříme v prodlouženou dobu a důvěryhodný vztahČína Sih4, silanový plyn, Aby bylo možné vyhovět větším požadavkům trhu a dlouhodobému rozvoji, je ve výstavbě nová továrna o rozloze 150 000 metrů čtverečních, která bude uvedena do provozu v roce 2014. Poté budeme vlastnit velkou výrobní kapacitu. Samozřejmě budeme pokračovat ve zdokonalování systému služeb tak, aby vyhovoval požadavkům zákazníků a přinášel zdraví, štěstí a krásu všem.

Technické parametry

Silan je sloučenina křemíku a vodíku. Je to obecný termín pro řadu sloučenin, včetně monosilanu (SiH4), disilanu (Si2H6) a některých sloučenin křemíku a vodíku vyšší úrovně. Mezi nimi je nejběžnější monosilan, někdy zkráceně označovaný jako silan. Silan je bezbarvý plyn s nechutnou vůní česneku. Rozpustný ve vodě, téměř nerozpustný v ethanolu, etheru, benzenu, chloroformu, chloroformu křemíku a chloridu křemičitém. Chemické vlastnosti silanů jsou mnohem aktivnější než alkany a snadno se oxidují. Při kontaktu se vzduchem může dojít k samovolnému vznícení. Nereaguje s dusíkem pod 25 °C a nereaguje s uhlovodíkovými sloučeninami při pokojové teplotě. Požár a výbuch silanu jsou výsledkem reakce s kyslíkem. Silan je extrémně citlivý na kyslík a vzduch. Silan s určitou koncentrací bude také explozivně reagovat s kyslíkem při teplotě -180°C. Silan se stal nejdůležitějším speciálním plynem používaným v polovodičových mikroelektronických procesech a používá se při přípravě různých mikroelektronických filmů, včetně monokrystalických filmů, mikrokrystalických, polykrystalických, oxidu křemičitého, nitridu křemíku a silicidů kovů. Mikroelektronické aplikace silanu se stále do hloubky vyvíjejí: nízkoteplotní epitaxe, selektivní epitaxe a heteroepitaxní epitaxe. Nejen pro křemíková zařízení a křemíkové integrované obvody, ale i pro složená polovodičová zařízení (arsenid gallia, karbid křemíku atd.). Má také využití při přípravě supermřížkových materiálů kvantových vrtů. Dá se říci, že silan se v moderní době používá téměř ve všech vyspělých výrobních linkách integrovaných obvodů. Aplikace silanu jako filmu a povlaku obsahujícího křemík se rozšířila z tradičního mikroelektronického průmyslu do různých oblastí, jako je ocel, strojírenství, chemikálie a optika. Další potenciální aplikací silanu je výroba vysoce výkonných keramických dílů motorů, zejména použití silanu k výrobě silicidové (Si3N4, SiC atd.) technologie mikroprášků přitahuje stále větší pozornost.

Aplikace:

①Elektronické:

Silan se nanáší na vrstvy polykrystalického křemíku na křemíkových destičkách při výrobě polovodičů a tmelů.

②Solární:

Silan se používá při výrobě solárních fotovoltaických modulů.

③Průmyslové:

Používá se v energeticky úsporném zeleném skle a používá se k procesu napařování tenkého filmu.

Normální balíček:

Výhoda:

①Více než deset let na trhu;

② výrobce certifikátu ISO;

③ Rychlé dodání;

④ Stabilní zdroj surovin;

⑤On-line analytický systém pro kontrolu kvality v každém kroku;

⑥Vysoké požadavky a pečlivý proces pro manipulaci s válcem před plněním;

⑦ Čistota: vysoká čistota elektronické třídy;

⑧Použití: materiály solárních článků; výroba vysoce čistého polysilikonu, oxidu křemičitého a optických vláken; výroba barevného skla.Bez ohledu na nového zákazníka nebo předchozího klienta věříme v prodloužené časové období a důvěryhodný vztah pro tovární cenu pro Čínu 99,9999% silanový plyn Sih4 s vysokou čistotou pro proces nanášení polovodičů, vítáme nové a staré zákazníky, aby nás kontaktovali telefonicky nebo pošlete nám mailem dotazy ohledně předvídatelných budoucích sdružení společností a dosažení vzájemných úspěchů.
Tovární cena zaČína Sih4, Silane Gas, Abychom uspokojili další požadavky trhu a dlouhodobý rozvoj, staví se nová továrna o rozloze 150 000 metrů čtverečních, která bude uvedena do provozu v roce 2014. Poté budeme vlastnit velkou kapacitu výroby. Samozřejmě budeme pokračovat ve zdokonalování systému služeb tak, aby vyhovoval požadavkům zákazníků a přinášel zdraví, štěstí a krásu všem.