Levný ceník speciálních plynů Čína dodává elektronový/polovodičový plyn tetrafluorid uhlíku/tetrafluormethan CF4 s čistotou 99,999 %

„Upřímnost, inovace, důslednost a efektivita“ je trvalou koncepcí naší organizace pro dlouhodobé budování spolupráce se zákazníky pro vzájemnou reciprocitu a vzájemný zisk. Levný ceník speciálních plynů z Číny, dodávka elektronového/polovodičového tetrafluoridu uhlíku/tetrafluormethanu CF4 o čistotě 99,999 %. Jako mladá a rozvíjející se společnost možná nejsme nejúčinnější, ale snažíme se být vaším skvělým partnerem.
„Upřímnost, inovace, důslednost a efektivita“ je trvalou koncepcí naší organizace, kterou chceme dlouhodobě budovat společně se zákazníky za účelem vzájemné reciprocity a vzájemného zisku.Čína CF4 a plyn CF4„Vytvářet hodnoty, sloužit zákazníkům!“ je náš cíl. Upřímně doufáme, že všichni zákazníci s námi navážou dlouhodobou a vzájemně prospěšnou spolupráci. Pokud si přejete získat více informací o naší společnosti, neváhejte nás kontaktovat!

Technické parametry

Fluorid uhličitý je halogenovaný uhlovodík s chemickým vzorcem CF4. Lze jej považovat za halogenovaný uhlovodík, halogenovaný metan, perfluorovaný uhlovodík nebo za anorganickou sloučeninu. Fluorid uhličitý je bezbarvý plyn bez zápachu, nerozpustný ve vodě, rozpustný v benzenu a chloroformu. Je stabilní za normální teploty a tlaku, vyhněte se silným oxidačním činidlům, hořlavým nebo vznětlivým materiálům. Je nehořlavý plyn, vnitřní tlak v nádobě se při vystavení vysokému teplu zvýší a existuje nebezpečí prasknutí a výbuchu. Je chemicky stabilní a nehořlavý. Při pokojové teplotě může fungovat pouze kapalné činidlo amoniak-sodík. Fluorid uhličitý je plyn, který způsobuje skleníkový efekt. Je velmi stabilní, může setrvat v atmosféře po dlouhou dobu a je velmi silným skleníkovým plynem. Fluorid uhličitý se používá v procesu plazmového leptání různých integrovaných obvodů. Používá se také jako laserový plyn a používá se v nízkoteplotních chladivech, rozpouštědlech, mazivech, izolačních materiálech a chladicích kapalinách pro infračervené detektory. Je to nejpoužívanější plazmový leptací plyn v mikroelektronickém průmyslu. Jedná se o směs vysoce čistého plynu tetrafluormethanu a vysoce čistého plynu tetrafluormethanu a vysoce čistého kyslíku. Může být široce používán v křemíku, oxidu křemičitém, nitridu křemičitém a fosfosilikátovém skle. Leptání tenkovrstvých materiálů, jako je wolfram a wolfram, se také široce používá při čištění povrchů elektronických zařízení, výrobě solárních článků, laserové technologii, nízkoteplotním chlazení, kontrole netěsností a jako detergent při výrobě plošných spojů. Používá se jako nízkoteplotní chladivo a technologie plazmového suchého leptání pro integrované obvody. Bezpečnostní opatření pro skladování: Skladujte v chladném a větraném skladu nehořlavých plynů. Uchovávejte mimo dosah ohně a zdrojů tepla. Skladovací teplota by neměla překročit 30 °C. Měl by být skladován odděleně od snadno (hořlavých) hořlavin a oxidačních činidel a vyhněte se společnému skladování. Skladovací prostor by měl být vybaven zařízením pro nouzové ošetření úniků.

Aplikace:

① Chladivo:

Tetrafluormethan se někdy používá jako nízkoteplotní chladivo.

② Leptání:

Používá se v elektronické mikrofabrikaci samostatně nebo v kombinaci s kyslíkem jako plazmové leptadlo pro křemík, oxid křemičitý a nitrid křemičitý.

Normální balíček:

Výhoda:

①Vysoká čistota, nejmodernější zařízení;

②Výrobce s certifikátem ISO;

③Rychlé dodání;

④Online analytický systém pro kontrolu kvality v každém kroku;

⑤Vysoké požadavky a pečlivý postup pro manipulaci s lahví před plněním;